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            燃燒法總有機(jī)碳(TOC)分析儀

            型 號BC-200A

            更新時(shí)間2024-11-24

            廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家

            報(bào)價(jià)

            產(chǎn)品描述:燃燒法總有機(jī)碳(TOC)分析儀廣泛用于河流、湖泊、水庫等環(huán)境水中有機(jī)污染物的分析與監(jiān)測,工業(yè)廢水、污水處理廠的水質(zhì)管理,環(huán)保、高校、科研等領(lǐng)域的研究分析,化工、半導(dǎo)體工業(yè)、超純水系統(tǒng)、核電等領(lǐng)域的純水及回收管理。

            產(chǎn)品概述

            燃燒法總有機(jī)碳(TOC)分析儀應(yīng)用范圍1、制藥行業(yè)清潔驗(yàn)證2、自來水、地表水、江河、湖泊水3、生活污水、工業(yè)廢水4、化工用水(清洗水、冷卻水、回收水等)5、實(shí)驗(yàn)室科研燃燒法總有機(jī)碳(TOC)分析儀7英寸觸摸屏,人性化界面,操作簡單便捷;三管程電子冷凝脫水技術(shù),確保整個(gè)系統(tǒng)的脫水效率;高反射的鍍金氣室、高聚光的紅外光源及高靈敏的紅外探測器,保證NDIR優(yōu)異的性能,測量ppb級的數(shù)據(jù)具有足夠的靈敏度和準(zhǔn)確度;溫度可達(dá)1100℃,可根據(jù)樣品選擇不同的催化劑(如CeO、Pt,CuO)和設(shè)置不同的溫度;檢測曲線實(shí)時(shí)可見,更直觀;液體樣品自動(dòng)進(jìn)樣,精密的電磁計(jì)量泵,保證進(jìn)樣量的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性;多處溫度、壓力、流量實(shí)時(shí)自我監(jiān)測;燃燒爐加熱采用多重保護(hù),過熱能自動(dòng)切斷加熱,提高產(chǎn)品安全性能;無機(jī)碳反應(yīng)池設(shè)計(jì)有加熱裝置,消除了樣品峰的拖尾,縮短了樣品測定時(shí)間;內(nèi)置針式打印機(jī),減少占用空間;2年數(shù)據(jù)存儲量,查詢方便,并可按時(shí)間段查詢;具有密碼保護(hù)功能;可選配在線模塊,實(shí)現(xiàn)在線監(jiān)測;可選配自動(dòng)取樣儀,實(shí)現(xiàn)無人值守,節(jié)約人力和時(shí)間;可配置固體進(jìn)樣器,對固體樣品進(jìn)樣舟進(jìn)樣;符合國際標(biāo)準(zhǔn)ISO8245、中華人民共和國國家環(huán)境保護(hù)標(biāo)準(zhǔn)HJ501-2009、中華人民共和國國家計(jì)量檢定規(guī)程JJG 821-2005。

            TOC污水.png

            型號

            BC-200A(干法)

            TOC檢測范圍

            0~3000mg/L

            最高耐鹽量

            85g/L

            TOC測定項(xiàng)目

            IC TIC TOC

            檢測器

            NDIR(非色散紅外檢測)

            操作方式

            計(jì)算機(jī)控制

            應(yīng)用對象

            水樣

            氣體要求

            氧氣:≥99.995%

            檢出限

            50μg/l

            消解原理

            高溫催化氧化

            重現(xiàn)性

            3%

            分析時(shí)間

            每個(gè)參數(shù)1-4分鐘

            消解溫度

            0-1000℃(可調(diào))

            樣品溫度

            1℃~95℃

            顆粒物大小

            ≤0.2mm

            電源要求

            220VAC    50/60HZ

            尺寸大小

            430*455*440(長*寬*高)



            電子工業(yè)與超純水

            在半導(dǎo)體制作工藝中,80%以上的工序要經(jīng)過化學(xué)處理,而每-道化學(xué)處理都離不開超純水;  在硅片的處理工序中,一半以上的工序經(jīng)過超純水清洗后便直接進(jìn)入高溫處理過程,此時(shí)如 水中含有雜質(zhì)便會(huì)進(jìn)入硅片,造成器件性能下降成品率低。

            電子工業(yè)提出的超純水電阻率≥18MΩ .cm  ( 25℃) ,已極其接近理論純水水質(zhì) 18.3 MΩ .cm (25℃) 。對電解質(zhì)、DO 、TOC 、SIO2 、顆粒及細(xì)菌等技術(shù)指標(biāo)提出更高要求。如 256  兆  位的動(dòng)態(tài)隨機(jī)儲存器生產(chǎn)工藝,光刻線條寬已達(dá) 0.1  微米,要保證這一指標(biāo),超純水中顆粒 徑就得≤0.05μm ,而且 20.05μm  不得超過 500 個(gè)/升超純水。

            制備超純水的水源

            由于水是一種溶解能力很強(qiáng)的溶劑,因此天然水中含有各種鹽類和化合物,溶有 CO2,還有 膠體(包括硅膠和腐殖質(zhì)膠體) ,天然水中還存在大量的非溶解性質(zhì),包括粘土、砂石、細(xì) 菌、微生物、藻類、浮游生物、熱源等等。

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